晶元等離子體處理系統(tǒng)GX-H80

產(chǎn)品展示

等離子體表面處理裝置由反應(yīng)腔體（又稱真空腔體）、真空系統(tǒng)、等離子體發(fā)生系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)等組成。

考慮到生產(chǎn)操作的簡便和效率，被處理材料的邊料節(jié)約以及該處理裝置的性價(jià)比，本裝置擬考慮採用水準(zhǔn)式放置結(jié)構(gòu)。反應(yīng)腔由真空室、平板式電極組成，是等離子體（Plasma）處理反應(yīng)的有效空間，待處理物品水準(zhǔn)置於反應(yīng)腔內(nèi)並可以設(shè)計(jì)成多層結(jié)構(gòu)便於大批量作業(yè)；真空系統(tǒng)由真空閥門、真空泵以及真空管路、真空系統(tǒng)控制執(zhí)行元件等組成，負(fù)責(zé)將反應(yīng)腔內(nèi)的空氣抽至預(yù)先的設(shè)定值並在工作時(shí)維持相應(yīng)的真空度；考慮到本裝置被處理材料要求清潔和活化作用，故本裝置的等離子體發(fā)生源擬採用波形經(jīng)過特殊處理的、具有高速震盪功能的等離子體發(fā)生源，該系統(tǒng)源為反應(yīng)腔提供等離子體能量，以激發(fā)反應(yīng)腔內(nèi)的被反應(yīng)氣體急劇震盪電離，形成所需要的具有清潔能力的等離子體（Plasma）；電控系統(tǒng)的作用是按照預(yù)設(shè)的工藝參數(shù)和步驟，智能最優(yōu)自動(dòng)控制該裝置的工藝流程的全過程，並能自整定維持工藝參數(shù)的穩(wěn)定性；工藝反應(yīng)氣體進(jìn)氣流量控制系統(tǒng)主要由品質(zhì)流量計(jì)和自控電磁閥門組成，其作用是精確控制反應(yīng)氣體的進(jìn)氣量，並維持工作期間所需要的真空度值。

本裝置採用PLC可編程式控制，人機(jī)對(duì)話採用觸摸屏設(shè)置和顯示，介面友好，處理參數(shù)可以在觸摸屏上任意設(shè)定，具有手動(dòng)/自動(dòng)切換功能。自動(dòng)操作採用“一鍵式”，工作過程完全由電腦自動(dòng)控制完成。手動(dòng)操作由用戶在手動(dòng)模式介面上自行完成。

所有設(shè)備均可進(jìn)行非標(biāo)定制，其他參數(shù)，涉及到公司內(nèi)部機(jī)密，請(qǐng)您來電諮詢。