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國興技術(shù)為您講解等離子體及表面處理的四大作用特點
作者:原創(chuàng) 瀏覽:6520 發(fā)布日期: 2021-03-10

揚州國興技術(shù)是國內(nèi)等離子體行業(yè)的知名公司,公司各位高層線上路板行業(yè)都具有豐富的經(jīng)驗,歡迎大家來我司互相學(xué)習(xí)探討。

說到等離子體行業(yè),我們首先要明白什麼是等離子體:
當(dāng)溫度繼續(xù)上升,氣態(tài)物質(zhì)的分子熱運動不斷加劇,相互間的碰撞就會越來越激烈,部分原子中的電子就會被剝離,不再被束縛於原子核,而成為高位能、高動能的自由電子,我們稱作氣態(tài)物質(zhì)產(chǎn)生了電離。由於氣態(tài)物質(zhì)電離過程中正離子和電子總是相對應(yīng)出現(xiàn),所以在被電離的氣態(tài)物質(zhì)中正離子帶有的正電荷與電子帶有的負(fù)電荷的密度總數(shù)就大致相等,因此從總體來看這種被電離的氣態(tài)物質(zhì)呈準(zhǔn)電中性,我們把氣態(tài)物質(zhì)這種存在的狀態(tài)稱為等離子體 (英文plasma),等離子體是物質(zhì)除了常見的固態(tài)、液態(tài)和氣態(tài)這三態(tài)以外的物質(zhì)的第四態(tài)。

接下來為大家講解等離子體表面處理的四大作用及特點:

 

等離子體表面處理淨(jìng)化作用:
可有效去除物體表面有機污染物和氧化物。主要特點:任何濕洗法清洗,表面都會有殘留,只有低溫等離子體表面處理才能做到徹底的淨(jìng)化,得到超高潔淨(jìng)度的表面,且低溫等離子體只對材料納米級的表面起作用,不會改變材料原有的特性,在對表面潔淨(jìng)度要求較高的工藝中,正在取代濕法處理工藝而得到廣泛使用。處理機理:主要是依靠等離子體中活性粒子的“活化作用”達到去除物體表面污漬的目的。氣體被激發(fā)為等離子態(tài);重粒子撞擊固體表面;電子與活性基團與固體表面發(fā)生反應(yīng)解析為新的氣相物質(zhì)而脫離表面。等離子體清洗技術(shù)的最大特點是不分處理對象的基材類型,均可進行處理,對金屬、半導(dǎo)體、氧化物和大多數(shù)高分子材料,如聚丙烯、聚脂、聚醯亞胺、聚氯乙烷、環(huán)氧、甚至聚四氟乙烯等都能很好地處理,並可實現(xiàn)整體和局部以及複雜結(jié)構(gòu)的清洗。

國興技術(shù)為您講解等離子體及表面處理的四大作用特點

等離子體表面處理活化作用:
經(jīng)低溫等離子體處理後使物體表面形成C=O羰基(Carbonyl)、-COOH羧基(Carboxyl) 、?OH羥基(Hydroxyl)三種基團。這些基團具有穩(wěn)定的親水功能,對粘接、塗覆有積極作用。主要特點:可使聚合物表面出現(xiàn)部分活性原子、自由基和不飽和鍵,這些活性基團與等離子體中的活性粒子發(fā)生反應(yīng)生成新的活性基團,從而增加表面能量,改變表面的化學(xué)特性,增強表面附著力、粘結(jié)力、張力,包括對橡膠、複合材料、玻璃、布料、金屬等的處理,涉及各行各業(yè)。

國興技術(shù)為您講解等離子體及表面處理的四大作用特點

等離子體表面處理粗化與刻蝕作用:
對應(yīng)不同的材料採用相應(yīng)的氣體組合形成具有強烈蝕刻性的氣相等離子體與材料表面的本體發(fā)生化學(xué)反應(yīng)及物理衝擊,使材料本體表面的固態(tài)物質(zhì)被氣化,生成如CO、CO2、H2O等氣體,從而達到微蝕刻的目的。主要特點:刻蝕均勻,不改變材料基體特性;能有效粗化材料表面,並能精準(zhǔn)控制微蝕量。

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等離子體表面處理塗層(沉積、接枝)作用:
等離子體處理工藝還可以應(yīng)用於對材料的微量塗層。選配兩種相對應(yīng)的不同氣體同時進入等離子體反應(yīng)艙,兩種氣體在等離子體環(huán)境下被激發(fā)而重新聚合,會產(chǎn)生新的化合物沉積在材料的表面形成新的塗層,利用等離子體處理的這種特效,可以把本來不易塗覆的材料塗覆到物體的表面,例如心臟支架、人造血管的防血液凝固塗層,材料的防刮表面和疏水性塗層等。主要特點:可使材料表面分子鏈發(fā)生斷裂產(chǎn)生新的自由基、雙鍵等活性基團,隨之發(fā)生交聯(lián)、接枝等反應(yīng),活性氣體會在材料表面聚合產(chǎn)生一層沉積層,達到材料表面改性的目的。

國興技術(shù)為您講解等離子體及表面處理的四大作用特點

歡迎各行業(yè)精英來我司一起探討等離子設(shè)備相關(guān)知識,本篇文章從等離子體四個作用點及特點為大家做了相關(guān)說明,希望對大家有幫助。揚州國興技術(shù)將致力於為客戶提供等離子體刻蝕與表面清潔處理設(shè)備。

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