Box-type vacuum plasma processing system GX-V1502

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項目	規(guī)格
主機尺寸	1955W x 1580D x 1750H mm
真空腔體尺寸	1020W x 1330D x 913H mm
電極板配置	16 片垂直電極板，15 個處理位置
有效區(qū)域	1100W x 615H mm
等離子體電源	10kw-20kw
電極溫度	35~95℃，模溫恒定控制，待機狀態(tài)也能保持溫度不變，省去預(yù)熱時間
工藝氣體控制	標(biāo)配： O2、N2：0~5000sccm； CF4：0~400sccm； Ar：0~2000sccm；可選：額外一路工藝氣體，流量範(fàn)圍可定制
真空檢測	0.01Torr~760Torr，真空計
工作氣壓	0.15~0.3Torr，控制精度 0.2mTorr
人機界面觸摸屏	中文界面，模擬圖文顯示；操作員、工程師權(quán)限分級；
真空泵組	選配
型號指示燈	三色指示燈，帶報警蜂鳴器
系統(tǒng)重量	~3.5 噸，包含主機、泵組、模溫機
空間需求	4000 x 4000 x 2200(H)mm
電源需求	AC380V 三相五線，50Hz/100A，30kW
壓縮空氣需求	潔凈、幹燥，0.5~0.8MPa
工藝氣體需求	0.3~0.5MPa，純度>99.9%
廠務(wù)冰水需求	20℃，20L/min （模溫機采用水冷式需求冰水，風(fēng)冷式無該項）
抽風(fēng)系統(tǒng)	>100 立方/min （模溫機采用風(fēng)冷式需求熱排風(fēng)，水冷式無該項）
廢氣管道	>3 立方/min，中央廢氣系統(tǒng)，DN50
環(huán)境溫濕度	20~30℃，30%~70%RH

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